超声辐射醇水体系制备纳米CeO₂粉体及其抛光性能研究

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• 出版年：2007
• 作者：陈杨；陈志刚；李霞章；陈爱莲
• 单位1：江苏工业学院材料系
• 出生年：1978
• 学历：硕士
• 职称：讲师
• 语种：中文
• 作者关键词：纳米CeO₂；超声场；醇水体系；抛光
• 起始页：146
• 总页数：4
• 经费资助：江苏省自然科学基金资助项目（BK2002010）；江苏省高新技术项目（BG2004022）.
• 刊名：润滑与密封
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1976
• 主管单位：中国科学技术协会
• 主办单位：中国机械工程学会摩擦学分会；广州机械科学研究院
• 主编：贺石中
• 地址：广州市黄浦区茅岗路828号
• 邮编：510700
• 电子信箱：rhymf@gmeri.com；rfbjb@163.net；webmaster@gmeri.com
• 网址：www.gmeri.com.cn
• 卷：32
• 期：3
• 期刊索取号：P830.6 141-4
• 数据库收录：中国核心期刊；中国科技论文统计刊源；Ei Compendex数据库核心刊源；CA收录期刊
• 核心期刊：中国核心期刊

摘要

在超声辐射条件下，使用正丁醇/水反应体系通过均相沉淀法制备了纳米CeO₂粉体；将所制备的纳米CeO₂粉体作为磨料对硅晶片进行抛光，用原子力显微镜观察抛光表面的微观形貌并测量表面粗糙度；研究了超声场以及醇/水反应体系对纳米CeO₂粉体粒径和团聚情况的影响，考察了纳米CeO₂磨料对硅晶片的抛光效果。结果表明：超声辐射以及醇/水反应体系均有利于制备出粒径更小，且分散性更好的纳米CeO₂粉体；使用纳米CeO₂磨料抛光的硅晶片表面最终在2pμmx2pμm范围内的微观粗糙度值为Rα0.108nm，而且抛光表面非常平整。