化学气相沉积制备铂族金属涂层及难熔金属

化学气相沉积制备铂族金属涂层及难熔金属

出版年：2008
作者：魏燕；胡昌义；王云；欧阳远良；陈力；蔡宏中
单位1：昆明贵金属研究所
学历：硕士研究生
语种：中文
作者关键词：金属材料；铂族金属薄膜；难熔金属；制备；化学气相沉积
起始页：62
总页数：5
经费资助：云南省自然科学基金资助项目（2004E0064M）
刊名：贵金属
是否内版：否
刊频：季刊
创刊时间：1980
主办单位：中国有色金属学会；昆明贵金属研究所
主编：侯树谦
地址：昆明市高新技术开发区科技路988号昌源北路昆明贵金属研究所
邮编：650106
电子信箱：bjba@ipm.com.cn；GJSZ@chinajournal.net.cn
卷：29
期：2
期刊索取号：P754.06 699-1
数据库收录：中国科技核心期刊；中国有色金属工业优秀科技期刊二等奖；美国化学文摘(CA)源；英美金属学会金属文摘(MA)源；美国剑桥科学文摘(CSA)文献源期刊；国际贵金属学会(IPMI)收藏；入编《中国学术期刊（光盘版）》(CAJ-CD)；入编《中国期刊网》；中国学术期刊综合评价数据库用刊；中国科学引文数据库文献源；中国科学技术部科技论文统计分析源；中国金属文摘数据库用刊等等；《中国学术期刊文摘（中、英文版）》；万方中国数字化期刊全文数据库；维普中文科技期刊数据库
核心期刊：中国科技核心期刊

摘要

综述了化学气相沉积（Chemical Vapor Depositio，简称CVD）技术制备高温抗氧化涂层一铂族金属（Pt、Ir）涂层及难熔金属（WMo、Ta、Nb、R）的方法。并对部分有报道的沉积参数以及沉积参数对沉积层结构及性质的影响进行了介绍

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