氮氩流量比对闭合场非平衡磁控溅射沉积TiN涂层组织结构及力学性能的影响

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• 作者：尚金张豪张洁君多树旺徐志文
• 会议时间：2014-12-01
• 关键词：氮化钛涂层 ; 氮氩流量比 ; 表面形貌 ; 结构硬度 ; 结合力
• 作者单位：江西科技师范大学江西省材料表面工程重点实验室,江西南昌330013
• 母体文献：第十四届全国金相与显微分析学术年会论文集
• 会议名称：第十四届全国金相与显微分析学术年会
• 会议地点：厦门
• 主办单位：中国体视学学会
• 语种：chi
• 分类号：TG1;P33

摘要

采用闭合场非平衡磁控溅射法,在不同氮氩比条件下制备了TiN涂层.利用扫描电镜、X射线衍射、显微硬度计和划痕仪研究了氮氩流量比对涂层组织和性能的影响.研究结果表明:不同氮氩比条件下,直流溅射TiN涂层表面形貌呈现明显的不同.当氮氩流量比λN2/Ar为35∶20时,涂层中Ti、N原子比接近1∶1;所有TiN涂层中都是Ti2N和TiN共存,但是氮氩流量比对涂层中相晶面择优取向有很大影响;涂层的硬度和结合力随氮氩流量比的增加先上升后下降,且当氮氩流量比λN2/Ar为35∶20时,硬度和结合力达到最大值,分别为5383HV0.01和16.00N.