金属铀表面磁控溅射CrNx薄膜的制备及腐蚀性能
- 作者：朱生发刘天伟吴艳萍黄河江帆唐凯魏强
- 会议时间：2011-08-21
- 关键词：贫铀 ; CrNx薄膜 ; 非平衡磁控溅射 ; 腐蚀性能
- 作者单位：朱生发,吴艳萍,黄河,江帆,唐凯,魏强(中国工程物理研究院,四川绵阳 621900)刘天伟(表面物理与化学重点实验室,四川绵阳 621907)
- 母体文献：第六届全国腐蚀大会论文集
- 会议名称：第六届全国腐蚀大会
- 会议地点：银川
- 主办单位：中国腐蚀与防护学会
- 语种：chi
摘要
金属铀的化学性质十分活泼,极易发生氧化腐蚀。为改善基体的抗腐蚀性能,采用非平衡磁控溅射离子镀技术在金属铀表面制备CrNx 薄膜。采用X 射线衍射和X 射线光电子能谱研究了薄膜表面的物相结构和元素成分分布,采用极化曲线研究了薄膜的抗腐蚀性能。试验结果表明,CrNx 薄膜具有较好的致密性和抗腐蚀性能。当氮分压较小时,生成的薄膜为Cr+CrN+Cr2N 混合相。在金属铀表面制备一层CrNx 薄膜后,其腐蚀电位增大,腐蚀电流密度明显降低,有效改善了贫铀表面的抗腐蚀性能。