强磁场下BiFe0.95Mn0.05O3薄膜的制备及其电性能研究

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• 作者：汤现武戴建明朱雪斌孙玉平
• 会议时间：2014-08-20
• 关键词：多铁材料 ; 铁酸铋薄膜 ; 强磁场 ; 制备工艺 ; 铁电性能
• 作者单位：汤现武,戴建明,朱雪斌(中国科学院固体物理研究所材料物理重点实验室)孙玉平(中国科学院固体物理研究所材料物理重点实验室;中国科学院强磁场科学中心 合肥 230031)
• 母体文献：第二届全国电磁冶金与强磁场材料科学会议论文集
• 会议名称：第二届全国电磁冶金与强磁场材料科学会议
• 会议地点：包头
• 主办单位：中国金属学会电磁冶金与强磁场材料科学分会
• 语种：chi
• 分类号：O6;TB3

摘要

为了研究强磁场烧结对BiFeO3基薄膜的微结构、铁电和介电性能的影响,采用化学溶液沉积(CSD)方法,在强磁场(0,ST)下制备了BiFe095Mn0.05O3薄膜,通过对薄膜的微结构、铁电和介电性能的系统研究,发现强磁场下制备的薄膜具有较大的晶粒尺寸,较小的(001)取向度,致密的薄膜表面、较小的漏电流,但薄膜的室温介电常数和电极化强度减弱.薄膜晶粒尺寸和表面致密性的改善,主要是由于退火磁场提供了额外的生长驱动力.电性能的变化主要来源于薄膜中缺陷的降低.研究结果表明强磁场烧结可有效提高CSD方法制备BFO基薄膜的致密性,并调控其性能,为今后进一步开展强磁场下其它BFO基薄膜制备与研究奠定了基础.