新型水处理剂低膦水解聚马来酸酐的合成及其性能

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• 作者：孙清王风贺石晓坚陈俏波王力友
• 会议时间：2008-07-01
• 关键词：低膦环保型 ; 水解聚马来酸酐 ; 水处理剂 ; 水溶液聚合法 ; 缓蚀性能 ; 阻垢性能
• 作者单位：孙清,石晓坚,陈俏波(江苏常州曙光化工厂,江苏常州213016)王风贺,王力友(南京师范大学动力工程学院水处理研究所,江苏南京210042)
• 母体文献：第十五届全国缓蚀剂学术会议、2008全国防锈技术交流年会联合大会论文集
• 会议名称：第十五届全国缓蚀剂学术会议、2008全国防锈技术交流年会联合大会
• 会议地点：沈阳
• 主办单位：中国腐蚀与防护学会
• 语种：chi

摘要

以马来酸酐(MA)、双氧水(H2O2)、次磷酸盐为原料,在催化剂的作用下,采用水溶液聚合法合成出低膦水解聚马来酸酐(HPMA),通过实验确定了合成低膦HPMA的最佳工艺条件,得到固含量为50%的浅黄色透明液体——低膦(舍磷3%)水解聚马来酸酐。对所合成的新型水处理药剂的缓蚀阻垢性能进行了研究,结果表明:低膦HPMA具有良好的缓蚀、阻垢性能,阻垢率和缓蚀率分别为33.9%和39.38%。