基体材质对镁合金微弧氧化膜致密性的影响

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• 作者：郭泉忠杜克勤王荣徐永东朱秀荣王福会
• 会议时间：2012-07-25
• 关键词：镁合金 ; 微弧氧化膜 ; 致密性 ; 基体材质 ; 电化学阻抗谱
• 作者单位：郭泉忠,杜克勤,王福会(中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室,沈阳 110016)王荣,徐永东,朱秀荣(中国兵器科学研究院宁波分院,宁波 315000)
• 母体文献：第十七届全国缓蚀剂学术讨论会论文集
• 会议名称：第十七届全国缓蚀剂学术讨论会
• 会议地点：三峡
• 主办单位：中国腐蚀与防护学会
• 语种：chi

摘要

现阶段,关于基体不同对微弧氧化膜致密性的影响,尤其是稀土镁合金,研究较少。本工作采用致密化微弧氧化技术在Mg-Gd-Y、ZM6和AZ91D三种镁合金表面制备微弧氧化膜,通过EIS手段比较研究了三种镁合金表面微弧氧化膜致密度的不同。结果表明,三种镁合金表面氧化膜的致密性依次为:Mg-Gd-Y>AZ91D>ZM6,可见,基体对微弧氧化膜具有重要的影响。分析认为,该影响主要由合金内Mg含量的差异所导致,Mg含量越高,膜层越疏松。