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表面溅射保护膜对Gd磁热效应的影响
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  • 作者:杨勇许龙山赵军吴卫刘兴军
  • 会议时间:2014-12-01
  • 关键词:金属钆 ; 表面溅射法 ; 保护膜 ; 磁热效应
  • 作者单位:杨勇(厦门理工学院材料科学与工程学院,福建厦门361024;厦门大学材料学院 福建厦门361005)许龙山,赵军(厦门理工学院材料科学与工程学院,福建厦门361024)吴卫(西华大学材料学院 四川成都610039)刘兴军(厦门大学材料学院 福建厦门361005)
  • 母体文献:第十四届全国金相与显微分析学术年会论文集
  • 会议名称:第十四届全国金相与显微分析学术年会
  • 会议地点:厦门
  • 主办单位:中国体视学学会
  • 语种:chi
摘要
模拟磁制冷机工作原理,分别测试Gd表面溅射Ti\Al\Cu\1Cr18Ni9Ti四种不同保护膜,在磁场中磁化和去磁时产生的最大绝热温变,研究表面溅射保护膜对Gd磁热效应的影响,结果发现:Ti\Al\Cu\1Cr18NDTi四种保护膜对Gd居里点温度影响较小,Ti\Al保护膜几乎没影响Gd最大绝热温变,而Cu\1Cr18Ni9Ti保护膜均降低,绝热温变曲线在居里点附近呈对称趋势,保护膜降低了Gd在居里点的温跨.研究表明Ti\Al保护膜对Gd磁热效应影响较小,适合用于磁致冷材料表面防腐.

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