摘要
采用溶胶凝胶法和浸渍提拉技术在导电玻璃,316不锈钢及铜表面构筑纳米TiO2薄膜及Sn(Ⅳ)-TiO2,N-TiO2复合膜,引入紫外光照对薄膜进行改性.利用SEM,XRD,XPS等手段,对纳米薄膜的形貌、品型、组成等进行表征.采用腐蚀电化学和光电化学相结合技术,测试膜层的光电化学性质,研究TiO2及复合半导体薄膜对金属基体的光生阴极保护作用及光电响应特性等.结果表明:TiO2/316L、TiO2-SnO2/316L和光辅助法TiO2-SnO2/Cu膜电极作为光生阳极时,紫外光照射下可使316不锈钢和铜基体处于阴极保护状态,停止光照后,光生电位仍可维持较低电位一段时间.掺N的TiO2膜对波长大于500nm的可见光具有较强的光电响应,光照下对316L和铜基体起到阴极保护作用,暗态下,光生电位继续保持.