含多氰基的有机非线性光学材料合成研究进展

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• 出版年：2009
• 作者：唐翔；唐先忠；赵波；闫裔超
• 单位1：电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室
• 出生年：1984
• 学历：硕士生
• 语种：中文
• 作者关键词：有机非线性光学材料；合成；多氰基；共轭链
• 起始页：19
• 总页数：4
• 经费资助：国家自然科学基金（60771044）资助
• 刊名：材料导报
• 是否内版：否
• 刊频：半月刊
• 创刊时间：1987
• 主管单位：重庆西南信息有限公司（原科学技术部西南信息中心）
• 主办单位：重庆西南信息有限公司（原科学技术部西南信息中心）
• 主编：张明
• 地址：重庆市渝北区洪湖西路18号
• 邮编：401121
• 电子信箱：matzhubian@gmail.com；mat-rev@163.com；matreved@163.com；maeditor@gmail.com
• 网址：http://www.mat-rev.com
• 卷：23
• 期：17
• 期刊索取号：P822.06 432
• 数据库收录：全国中文核心期刊；中国科学引文数据库来源期刊；中国科技论文统计源期刊
• 核心期刊：全国中文核心期刊

摘要

含多氰基的有机非线性光学材料是近年来有机非线性光学材料研究的热点。这类材料的合成研究呈现出共轭链由短到长，分子由简单到复杂，由一维到多维的趋势。随着研究技术的成熟，其在器件应用方面的改性也受到重视，目前，很多有机非线性光学材料都已被制作成器件而得到应用。综述了这类材料的合成研究情况，探讨了具有高电光活性和低光损耗的非线性光学材料的合成技术，展望了今后有机非线性光学材料分子设计合成可能的发展方向。