氧原子在γ-TiAl（111）表面吸附的第一性原理研究

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• 出版年：2006
• 作者：李虹；刘利民；王绍青；叶恒强
• 单位1：中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家联合实验室
• 出生年：1981
• 学历：博士生
• 语种：中文
• 作者关键词：γ-TiAl；第一性原理；氧化；吸附能；表面能；化学势
• 起始页：897
• 总页数：6
• 经费资助：国家重点基础研究发展规划资助项目G2000067104
• 刊名：金属学报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1956
• 主办单位：中国金属学会
• 主编：柯俊
• 地址：沈阳文化路72号
• 邮编：110016
• 电子信箱：jsxb@imr.ac.cn
• 网址：www.ams.org.cn
• 卷：42
• 期：9
• 期刊索取号：P750.66 350
• 数据库收录：第三届国家期刊奖

摘要

运用第一性原理方法对氧原子在y-TiA1（111）表面的吸附研究表明，氧原子倾向于吸附在近邻表面层多Ti的位置，随着覆盖率的增加，表面不同位置吸附能差别减小.电子结构分析发现，氧原子同表面金属原子形成以离子特性为主的化学吸附.氧化学势对TiAl表面稳定性影响的研究表明，γ-TiAl（111）清洁表面只能在氧化学势很低时可以稳定存在，氧化学势稍高，清洁表面就变得不稳定，氧原子开始吸附，并迅速达到高覆盖率的情况.