氮含量对脉冲偏压电弧离子镀CN_x薄膜结构与性能的影响

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• 出版年：2008
• 作者：李红凯；林国强；董闯；闻立时
• 单位1：大连理工大学三束材料改性国家重点实验室
• 出生年：1982
• 学历：博士生
• 语种：中文
• 作者关键词：氮化碳薄膜；脉冲偏压；电弧离子镀；结构；力学性能
• 起始页：917
• 总页数：5
• 经费资助：国家高技术研究发展计划资助项目2006AA03Z521
• 刊名：金属学报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1956
• 主办单位：中国金属学会
• 主编：柯俊
• 地址：沈阳文化路72号
• 邮编：110016
• 电子信箱：jsxb@imr.ac.cn
• 网址：www.ams.org.cn
• 卷：44
• 期：8
• 期刊索取号：P750.66 350
• 数据库收录：第三届国家期刊奖

摘要

用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持脉冲偏压一致和工作气压恒定的条件下，控制不同氮流量在硬质合金基体上制备了不同氮含量的CN_x薄膜.用SEM，GIXRD，XPS，激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明，随着氮流量的增加，薄膜中氮含量先是线性增加然后趋于平缓，薄膜呈非晶结构且为类金刚石簿膜，其硬度与弹性模量随着氮含量增加先增加后下降，在x=0.081时出现最大值，分别为32.1GPa和411.8GPa.分析表明，通过氮含量的改变而使sp³键含量发生改变是影响薄膜性能变化的重要因素.