脉冲偏压电弧离子镀C-N-Cr薄膜的成分、结构与性能

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• 出版年：2009
• 作者：李红凯；刘琪；林国强；董闯
• 单位1：大连理工大学材料科学与工程学院
• 出生年：1982
• 学历：博士
• 语种：中文
• 作者关键词：C-N-Cr薄膜；脉冲偏压；电弧离子镀；结构；性能
• 起始页：610
• 总页数：5
• 经费资助：国家高技术研究发展计划项目2006AA03Z521和2007AA03Z221资助
• 刊名：金属学报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1956
• 主办单位：中国金属学会
• 主编：柯俊
• 地址：沈阳文化路72号
• 邮编：110016
• 电子信箱：jsxb@imr.ac.cn
• 网址：www.ams.org.cn
• 卷：45
• 期：5
• 期刊索取号：P750.66 350

摘要

用脉冲偏压电弧离子镀设备在保持偏压一致和工作气压恒定的条件下，控制不同氮（N）流量，在硬质合金基体上制备了不同成分的C-N-Cr薄膜.用SEM，XPS，GIXRD，激光Raman谱和纳米压入等方法分别研究了薄膜的表面形貌、成分、结构与性能.结果表明，随着N流量增加，薄膜中N含量先是线性增加然后趋于平缓，Cr含量先是基本保持不变然后线性减少.在N流量不超过20mL/min时，薄膜保持较高的硬度（>30GPa）与弹性模量（>500GPa；当N流量超过20mL/min时，薄膜硬度与弹性模量急剧下降，在N流量为100mL/min时硬度与弹性模量仅为13.6与190.8GPa.