碳离子注入前后硅片的微动磨损行为研究
- 出版年：2008
- 作者：吴虎城；张德坤；李伟；陈立奇
- 单位1：中国矿业大学机电工程学院
- 出生年：1978
- 学历：硕士研究生
- 语种：中文
- 作者关键词：单晶硅；离子注人；微动磨损；摩擦因数
- 起始页：30
- 总页数：3
- 经费资助：国家自然科学基金资助项目（50405042）；教育部新世纪优秀0人才支持计划项目（NCET-06-0479）；江苏省自然科学基金创新人才项目（BK2005403）
- 刊名：润滑与密封
- 是否内版：否
- 刊频：月刊
- 创刊时间：1976
- 主管单位：中国科学技术协会
- 主办单位：中国机械工程学会摩擦学分会；广州机械科学研究院
- 主编：贺石中
- 地址：广州市黄埔区茅岗路828号
- 邮编：510700
- 电子信箱：webmaster@gmeri.com；rhymf@gmeri.com；rfbjb@163.net
- 网址：http://www.rhymf.com.cn
- 卷：33
- 期：4
- 期刊索取号：P830.6 141-4
- 数据库收录：中文核心期刊；中国科技论文统计刊源；《中国学术期刊文摘》源刊；CA收录期刊
- 核心期刊：中文核心期刊
摘要
利用离子注人技术对单晶硅片表面进行碳离子注人，用原位纳米力学测试系统对碳离子注人前后硅片的纳米硬度和弹性模量进行测定，在UMT-II型微摩擦试验机上对其开展微动磨损试验，利用S-3000N型扫描电镜观察其磨损后的磨痕表面形貌。结果表明，碳离子注入后硅片的纳米硬度增加，弹性模量降低，减摩效果和抗磨性能得到了提高；注入前后硅片的微动磨损机制相似，主要磨损形式为磨粒磨损。