LaAlO₃/BaTiO₃超晶格薄膜界面结构分析

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• 出版年：2005
• 作者：郝兰众；李燕；邓宏；刘云杰；姬洪
• 单位1：电子科技大学微电子与固体电子学院
• 出生年：1978
• 学历：硕士生
• 语种：中文
• 作者关键词：超晶格薄膜；LaAlO₃/BaTiO₃；高能电子衍射；小角X射线衍射；激光分子束外延技术
• 起始页：103
• 总页数：3
• 经费资助：国家973基础研究基金资助项目（基金编号：51310z）
• 刊名：材料导报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1987
• 主办单位：科学技术部西南信息中心
• 主编：彭丹
• 地址：重庆市渝中区胜利路132号
• 邮编：400013
• 电子信箱：mat-rev@163.com；matreved@163.com
• 网址：http://www.mat-rev.com
• 卷：19
• 期：2
• 期刊索取号：P/822.06/432
• 数据库收录：全国中文核心期刊；中国科学引文数据库来源期刊；中国科技论文统计源期刊

摘要

通过研究发现，利用激光分子束外延技术生长的LaAlO₃/BaTiO₃超晶格薄膜具有良好的电学性能，其剩余极化可达到25μc/cm²。性能决定于结构，因此本文分析研究了LaAlO₃/BaTiO₃超晶格薄膜的界面结构。首先通过高能电子衍射技术在薄膜生长过程中对各层的生长及界面状况进行观测，再通过小角X射线衍射曲线及其计算机拟合曲线进一步确定超晶格薄膜的界面及结构参数，如界面的粗糙度、单层厚度等。通过研究发现，由于晶格之间的差异，LaAlO₃/BaTiO₃超晶格薄膜中LaAlO₃和BaTiO₃层的生长过程及微结构存在着一定的差异。