铝电解槽低电解温度稳定控制技术的综合研究（上）——低电解温度选择及其稳定性研究
- 出版年：1999
- 作者：周铁托；洪建中；李勇；刘永刚
- 单位1：贵阳铝镁设计研究院
- 语种：中文
- 作者关键词：电解温度；电流效率；分子比；初晶温度；槽设定电压
- 起始页：28
- 总页数：5
- 刊名：轻金属
- 是否内版：否
- 刊频：月刊
- 创刊时间：1975
- 主管单位：国家有色金属工业局
- 主办单位：沈阳铝镁设计研究院
- 主编：张荫蓬
- 地址：沈阳市和平北大街184号
- 邮编：110001
- 期：10
- 期刊索取号：P750.6 803
- 数据库收录：中文核心期刊；全文入编《中国学术期刊（光盘版）》
- 核心期刊：中文核心期刊
摘要
围绕铝电解槽低电解温度稳定控制过程中遇到的一些工艺技术问题，对槽设定电压、分子比、电解温度三者关系；电解温度与电流效率的关系以及低电解温度选择的影响因素等进行了测试研究。在此基础上，确定低电解温度控制范围。并从铝电解工艺角度，找出电解温度稳定控制模型的一些基本关系。