反应烧结制备多孔β-sia1on/Si₃N₄陶瓷

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• 出版年：2010
• 作者：何恩全；岳建设；王红洁；乔冠军
• 单位1：西安交通大学，金属材料强度国家重点实验室
• 出生年：1985
• 学历：硕士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：反应烧结；多孔氮化硅；β-sialon
• 起始页：1459
• 总页数：4
• 经费资助：国家自然科学基金（90816018）；武器装备预研基金（9140C-5602040805）：西安市科技攻关计划[CXY08006（1）]资助项目。
• 刊名：硅酸盐学报
• 是否内版：否
• 刊频：月刊
• 创刊时间：1957
• 主管单位：中国科学技术学会
• 主办单位：中国硅酸盐学会
• 主编：黄勇
• 地址：北京海淀区三里河路11号
• 电子信箱：jccsoc@vip.163.com
• 网址：http://www.jccsoc.com；http://www.ceramsoc.com；http://gsyxb.periodicals.net.cn；http://gxyb.chinajournal.net.cn
• 卷：38
• 期：8
• 期刊索取号：P872.066 591
• 数据库收录：Ei核心期刊；CA，SA，РЖ收录期刊
• 核心期刊：Ei核心期刊

摘要

以Si粉和A1₂O₃空心球为原料，采用反应烧结后高温烧结法制备了多孔β-sialon/Si₃N₄陶瓷。X射线衍射结果表明：在0.25MPa的氮气压力下于1300℃反应烧结2h后在0.25MPa的氮气压力下1700℃及1750℃高温烧结2h，制备的样品的组成为β-siaon（Si_6-zAl_zO_zN_8-z，z=3）及β-Si₃N₄，随着烧结温度由1700℃升高至1750℃，β-sialon的相对质量分数由29.9%增加至56.8%。场发射扫描电镜观察结果表明：1750℃高温烧结样品的显微结构由大孔β-sialon及疏松的β-Si₃N₄基体组成。1750℃高温烧结后，样品的气孔率为28%，抗弯强度为92.5MPa。