溅射法镀二氧化钛薄膜靶材及工艺研究进展

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• 出版年：2006
• 作者：赵鑫；王星明；黄松涛；储茂友；郭奋；王赞海
• 单位1：北京有色金属研究总院矿物资源与冶金材料研究所
• 单位2：北京化工大学教育部超重力研究中心
• 出生年：1980
• 学历：硕士研究生
• 语种：中文
• 作者关键词：溅射；靶材；二氧化钛薄膜
• 起始页：177
• 总页数：4
• 经费资助：国家863计划项目（2003AA327040）
• 刊名：稀有金属
• 是否内版：否
• 刊频：双月刊
• 创刊时间：1977
• 主管单位：中国有色金属工业协会
• 主办单位：北京有色金属研究总院
• 主编：屠海令
• 地址：北京新街口外大街2号
• 邮编：100088
• 电子信箱：xxsf@grinm.com
• 网址：http://www.grinm.com.cn
• 卷：30
• 期：2
• 期刊索取号：P755.06 709-1
• 数据库收录：中文核心期刊；冶金工业类核心期刊；美国化学文摘（CA）源期刊；中国科技论文统计源期刊；中国科学引文数据库源期刊；中国物理学文献数据库原期刊
• 核心期刊：中文核心期刊；冶金工业类核心期刊

摘要

介绍了溅射法镀膜的基本原理，阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状。溅射镀TiO₂薄膜用靶材主要有金属钛、二氧化钛和“非化学计量”二氧化钛靶材3大类。由于钛的氧化态及靶材导电性不同，它们对溅射工艺（如溅射气氛等）有一定具体的要求，通过对靶材和相应工艺进行分析比较，指出应用“非化学计量”靶材是溅射法制备二氧化钛薄膜技术发展的重要方向。