氧化钒薄膜成分及价态的深度刻蚀分析

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• 出版年：2009
• 作者：魏雄邦；蒋亚东；吴志明；廖家轩；贾宇明；田忠
• 单位1：电子科技大学电子科学技术研究院
• 出生年：1976
• 学历：博士
• 职称：助理研究员
• 语种：中文
• 作者关键词：氧化钒薄膜；深度刻蚀；成分；价态
• 起始页：1
• 总页数：4
• 经费资助：电子科技大学校青年科学基金（JX0862）；教育部新世纪优秀人才支持计划（NCET-04-0896）
• 刊名：材料导报
• 是否内版：否
• 刊频：半月刊
• 创刊时间：1987
• 主管单位：重庆西南信息有限公司（原科学技术部西南信息中心）
• 主办单位：重庆西南信息有限公司
• 主编：张明
• 地址：重庆市渝北区洪湖西路18号
• 邮编：401121
• 电子信箱：matzhubian@gmail.com；mat-rev@163.com；matreved@163.com；maeditor@gmail.com
• 网址：http://www.mat-rev.com
• 卷：23
• 期：22
• 期刊索取号：P822.06 432
• 数据库收录：全国中文核心期刊；中国科学引文数据库来源期刊；中国科技论文统计源期刊
• 核心期刊：全国中文核心期刊

摘要

采用直流反应磁控溅射法制备了厚度为500nm的氧化钒薄膜。采用X射线光电子能谱仪对制得的氧化钒薄膜进行了深度刻蚀分析。结果表明，随薄膜刻蚀深度的增加，薄膜内的氧钒比及钒离子价态发生了递变，当薄膜刻蚀深度小于80nm时，这一递变趋势尤为明显。认为这与氧化钒薄膜中各价态钒氧化合物的稳定性和薄膜的制备工艺密切相关。