纳米金刚石膜——一种新的具有广阔应用前景的CVD金刚石

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• 出版年：2002
• 作者：韩毅松；玄真武；刘尔凯；侯立
• 单位1：北京天地东方超硬材料股份有限公司
• 出生年：1975
• 职称：助工
• 语种：中文
• 作者关键词：纳米金刚石；化学气相沉积；CVD金刚石
• 起始页：158
• 总页数：6
• 刊名：人工晶体学报
• 是否内版：否
• 刊频：双月刊
• 创刊时间：1972
• 主办单位：中国硅酸盐学会；晶体生长与材料专业委员会；人工晶体研究所
• 主编：佟学礼
• 地址：北京市733信箱
• 邮编：100018
• 电子信箱：E-mail:info@risc.com.cn
• 网址：www．risc．com．cn
• 卷：31
• 期：2
• 期刊索取号：P311.06105

摘要

以氢气为主要反应气体生长的CVD金刚石膜的晶粒尺寸过大限制了它在某些领域的进一步应用。当晶粒组成降到纳米级时，金刚石膜会表现出许多优异的性能，具有广阔的应用前景。与通常的CVD法生长金刚石的工艺不同，氩气在纳米金刚石的生长过程中发挥着重要作用。纳米金刚石的鉴定和评价是纳米金刚石研究中的重要部分。