铝合金表面特性与微弧氧化膜层生长过程的相关性
- 出版年：2010
- 作者：杨巍；蒋百灵；时惠英；鲜林云
- 单位1：西安理工大学 材料科学与工程学院
- 出生年：1981
- 学历：博士研究生
- 语种：中文
- 作者关键词：铝合金；微弧氧化；沉积层；阻抗；预制备膜
- 起始页：1767
- 总页数：7
- 经费资助：国家科技攻关计划（“十一五”计划）支撑项目（2006BAE04B05-1）
- 刊名：中南大学学报自然科学版
- 是否内版：否
- 刊频：双月刊
- 创刊时间：1956
- 主管单位：教育部
- 主办单位：中南大学
- 主编：黄伯云
- 地址：湖南长沙
- 邮编：410083
- 电子信箱：zngdxb@mail.csu.edu.cn
- 网址：http://www.zndxzk.com.cn
- 卷：41
- 期：5
- 期刊索取号：P706.6 140
- 数据库收录：《工程索引》（EI Compendex)、《化学文摘》《金属文摘》《铝工业文摘》《科学文摘》《科学技术文摘速报》《文摘杂志》《中文核心期刊要目总览》《中国科学论文引文数据库》等国内外检索刊物刊源期刊
- 核心期刊：中文核心期刊要目总览
摘要
利用扫描电镜（SEM）、X线光电子能谱仪（XPS）和IM6e电化学工作站等分析手段，探讨沉积层阻抗与微弧氧化膜层生长过程的相关性。研究结果表明：溶质离子参与沉积层的形成，并使其物质组成、微观结构以及阻抗产生较大差异，进而影响起弧时间和起弧电压；起弧后陶瓷层生长将依赖于基体铝向氧化铝的转变而使样品表面阻抗增大，有微量溶质离子被动参与成膜；铝合金表面预制备膜在起始阶段即增加样品的绝缘性，其种类和阻抗对微弧氧化起弧和生长过程影响均较小。