离心浇铸制样X射线荧光光谱测定铬铁中铬、硅、磷

详细信息   

• 责任者：陆晓明^c上海宝钢股份有限公司技术中心 ; 金德龙^c上海申佳铁合金厂 ; 林国强 ; 孙福民
• 刊名：冶金分析
• 出版年：2005
• 卷期：25^b1
• 关键词：Ｘ射线荧光光谱 ; 铬 ; 硅 ; 磷20^a样品制备 ; 精密度 ; 准确度
• 页码：45～48
• 索书号：P340.6/262-1
• 图表：^c表9参1
• 分类号：2300
• 文摘期号：2005/00

摘要

采用离心浇铸制样X射线荧光光谱测定铬铁中Cr、Si和P,能克服铁合金存在的矿物效应和颗粒效应,该方法简单、快速、精度高、准确。当Cr、Si、P的质量分数分别为66.04%、0.64%、0.016%,其相对标准偏差分别为0.18%、3.12%、6.25%。该法测定值与化学值相比,一致性较好,能满足常规分析要求。