浙江江山丁家山组层状硅质岩阴极发光特征及成因探讨

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• 责任者：曹秋香^c东华理工大学 ; 郭福生 ; 刘向铜 ; 杜杨松^c中国地质大学(武汉)地质过程与矿产资源国家重点实验室 ; 严兆彬 ; 张松 ; 孙文洁^c山东省煤田地质局第三勘探队
• 刊名：沉积学报
• 出版年：2008
• 卷期：26^b5
• 关键词：硅质岩11^a江山20^a中二叠世 ; 地球化学 ; 岩石学 ; 物源区30^a阴极发光 ; 丁家山组21^a浙江
• 页码：797～803
• 索书号：P371.066/243
• 图表：^c表2参43插图
• 分类号：0630,0300
• 文摘期号：2009/04

摘要

浙江江山中二叠世丁家山组,主要由黑色薄层状硅质岩、硅质粉砂岩、粉砂岩夹微晶灰岩组成。黑色薄层状硅质岩以高SiO₂、富Al₂O₃、富Fe₂O₃、低TiO₂和低MnO为特征,REE含量低,具弱Ce亏损、Tm正异常。硅质岩的阴极发光特征和岩石学特征表明,岩石属于交代成因,原岩可能为含生物碎屑灰岩,岩石硅化前曾发生过白云化作用。地球化学研究表明,硅质来源于正常地下水及陆源硅胶,无热水或火山硅质来源的迹象。